Anwendung
Kategorie
Standort
High Museum of Art, Atlanta, GA
14. Juni 2014 – 18. Januar 2015
Medium
Fotografie
Größe
Verschiedene
Glasuren
Die Herausforderung
Der Schutz der Fotografien während der Ausstellung bei gleichzeitigem optimalem Seherlebnis für die Besucher.
Die Lösung
Entspiegelt:
Ermöglicht den Betrachtern einen ungetrübten Blick auf die Fotografien ohne störende Reflexionen.
99 % UV-Schutz:
Schützt die Fotografien vor den schädlichsten Lichtwellenlängen und hilft so, Ausbleichen und Materialabbau zu verhindern.
Geringes Gewicht und bruchsicher:
Bietet Schutz vor Verletzungen sowie Schäden an den Kunstwerken und schützt die Besucher.
Antistatische Eigenschaften (übertrifft Glas):
der den von Glas übertrifft Eliminiert statische Aufladung sofort. Dies sorgt für eine sicherere, einfachere Einrahmung und einen geringeren Reinigungsaufwand.
Abriebfest:
Eine langlebige Hartbeschichtung schützt die Oberfläche vor Kratzern durch Reinigung und allgemeine Umwelteinflüsse im öffentlichen Raum.
Die Exponate
Der an der US-Westküste ansässige Fotograf Wynn Bullock war ein Modernist, dessen Werk technische Innovationen und wissenschaftliche Entdeckungen vereinte. Eine Retrospektive im High Museum of Art im Jahr 2014 bot einen umfassenden Überblick über sein Schaffen und fungierte als eine Art Kompaktgeschichte der modernen Fotografie – das Spektrum reichte von der „Straight Photography“ bis hin zu experimentellen Arbeiten mit Licht und Farbe. Kuratiert von Brett Abbott (High Museum) in Zusammenarbeit mit dem Center for Creative Photography in Tucson, präsentierte die Ausstellung mehr als 100 Schwarz-Weiß- und Farbfotografien. Für die Präsentation wurde Optium Museum Acrylic von Tru Vue verwendet, um auch die zahlreichen Werke, die hier zum ersten Mal öffentlich gezeigt wurden, optimal zu schützen und in Szene zu setzen.
Mehr Infos
- Weitere Informationen zu Wynn Bullock und der Ausstellung finden Sie hier: hier.