创作者：安塞尔·亚当斯（Ansel Adams）和爱德华·伯汀斯基（Edward Burtynsky）
应用领域
装裱艺术品
类别
艺术博物馆
地点
美国佛蒙特州谢尔本，谢尔本博物馆（Shelburne Museum）
2010年6月19日 – 2010年10月24日
中
摄影
尺寸
多种
装裱面材
Optium Museum Acrylic®
项目挑战
在展览期间保护摄影作品，同时提供最佳观赏体验。
解决方案
Optium Museum Acrylic
抗反射
让观众在无干扰反射的情况下欣赏摄影作品。
99% 紫外线阻隔
阻隔最具破坏性的光波段，帮助防止褪色与劣化。
亚克力重量约为玻璃的一半，并具备抗碎裂性能
降低人员受伤风险，并保护艺术品与观众安全。
防静电性能优于玻璃
可迅速消除静电电荷，使装裱更安全、更便捷，并减少清洁频率。
耐磨耐刮
耐久硬涂层可有效抵御清洁过程及公众环境中的划伤风险。
关于作品
该展览于谢尔本博物馆（Shelburne Museum）举办，将传奇的美国荒野摄影大师 Ansel Adams 的作品与 Edward Burtynsky 反映全球工业化进程的当代摄影作品进行对比展示。展览共展出60余件杰出摄影作品，是该博物馆首次举办摄影专题展览。
更多信息
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