作者：Wynn Bullock
应用领域
装裱艺术品
类别
艺术博物馆
地点
美国佐治亚州亚特兰大，高等艺术博物馆
6月14，2014 – 1月18，2015
中
摄影
尺寸
多种
装裱面材
Optium Museum Acrylic®
项目挑战
在展览期间保护摄影作品的同时，提供最佳观赏体验。
解决方案
抗反射
让观众在无干扰反射的情况下欣赏摄影作品。
99% 紫外线阻隔
阻隔最具破坏性的光波段，帮助防止褪色与劣化。
亚克力重量约为玻璃的一半，并具备抗碎裂性能
降低人员受伤风险，并保护艺术品与观众安全。
防静电性能优于玻璃
可迅速消除静电电荷，使装裱更安全、更便捷，并减少清洁频率。
耐磨耐刮
耐久硬涂层可有效抵御清洁过程及公众环境中的划伤风险。
关于作品
西海岸摄影师 Wynn Bullock 是一位现代主义艺术家，其创作融合了技术创新与科学探索。2014 年在亚特兰大高等艺术博物馆举办的回顾展全面梳理了其艺术生涯，同时呈现了一部现代主义摄影的发展缩影，从纪实摄影到光与色彩实验皆有所涵盖。本次展览由高等艺术博物馆策展人 Brett Abbott 与图森创意摄影中心合作策划，展出超过 100 幅黑白与彩色摄影作品，全部采用Tru Vue Optium Museum Acrylic 作为装裱面材，其中多件作品为首次公开展出。
更多信息
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