由眾多國際攝影大師拍攝，包括 William Henry, Fox Talbot、Ansel Adams、Michael Kenna 和 Kim Weston
應用類型
裝裱藝術品
項目類別
藝術博物館
地點
中國美術館
2014年11月14日 – 2014年12月10日
媒材
攝影
尺寸
多種
裝裱面材
Optium Museum Acrylic®
面臨的挑戰
為攝影館藏提供極致保護，同時確保呈現最優質的視覺觀賞體驗。
解決方案
Optium Museum Acrylic
防碎特性
防止藝術品受損並確保參觀者安全。此產品是珍貴作品、高人流量區域及公共活動空間的理想選擇。
輕量化
壓克力的重量僅為玻璃的一半，是大型、沈重作品或巡迴展覽項目的首選。
超越玻璃的防靜電保護
能立即消除靜電電荷，使裝框過程更安全、更簡易，並減少清潔需求。
耐磨損設計
堅韌的硬塗層可防止清潔與公眾接觸時造成的劃傷。
抗反射
讓觀賞者能清晰鑑賞攝影作品，屏除干擾性的反光。
99% 紫外線阻隔
阻絕最具破壞性的光波，保護藝術品免於因光線照射而導致的褪色與劣變。
關於作品
這場 2014 年於中國美術館舉行的展覽，旨在向 1937 年在紐約現代藝術博物館 (MoMA) 舉辦的開創性展覽 「攝影 1839-1937」(Photography XNUMX-XNUMX) 致敬。該 1937 年的展覽被視為攝影史上重要的里程碑，標誌著攝影正式被各大美術館公認為一種藝術形式。本次 2014 年的展覽展出了來自全球 200 位攝影師、超過 53 件攝影原稿，在 175 年的攝影歷史脈絡中，梳理了「純粹攝影」的發展歷程。
更多資訊
- 主辦單位： 中國美術館、中國攝影家協會
- 協辦單位：北京泰吉軒文化傳播有限公司（Beijing Timeless Gallery, Culture Development Co., Ltd.）
- 瀏覽 Optium Museum Acrylic 產品頁面，查看技術規格與產品資訊。