安塞爾·亞當斯 (Ansel Adams) 與 愛德華·伯汀斯基 (Edward Burtynsky) 作品
應用類型
裝裱藝術品
項目類別
藝術博物館
地點
佛蒙特州謝爾本，謝爾本博物館 (Shelburne Museum)
2010 年 6 月 19 日 – 2010 年 10 月 24 日
媒材
攝影作品
尺寸
多種
裝裱面材
Optium Museum Acrylic®
面臨的挑戰
旨在展覽期間為攝影作品提供周全保護，同時確保呈現極致的觀賞體驗。
解決方案
Optium Museum Acrylic
抗反射
讓觀者能專注於攝影作品本身，不受雜亂的反射影像干擾。
99% 紫外線阻隔
阻絕最具破壞性的光波長，有效防止作品褪色與劣化。
壓克力重量僅為玻璃的一半且具備耐衝擊特性
為藝術品與參觀者提供安全保障，預防意外損壞與受傷。
超越玻璃的防靜電保護
能立即消除靜電電荷，使裝框過程更安全、更簡易，並減少清潔需求。
耐磨損設計
堅韌的硬塗層可防止清潔與公眾接觸時造成的劃傷。
關於作品
謝爾本博物館（Shelburne Museum）舉辦的這場展覽，將安塞爾·亞當斯（Ansel Adams）傳奇性的美國荒野攝影作品，與愛德華·伯汀斯基（Edward Burtynsky）描繪全球工業化的當代影像進行對照。本次展覽呈現逾 60 幅非凡的攝影傑作，同時也是該館首度舉辦的攝影專題展。
更多資訊
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