作者：Wynn Bullock
應用類型
裝裱藝術品
項目類別
藝術博物館
地點
美國喬治亞州亞特蘭大，海格特藝術博物館
2014 年 6 月 14 日 – 2015 年 1 月 18 日
媒材
攝影
尺寸
多種
裝裱面材
Optium Museum Acrylic®
面臨的挑戰
在展覽期間保護攝影作品，同時提供最極致的觀賞體驗。
解決方案
抗反射
讓觀者能專注於攝影作品本身，不受雜亂的反射影像干擾。
99% 紫外線阻隔
阻絕最具破壞性的光波長，有效防止作品褪色與劣化。
壓克力重量僅為玻璃的一半且具備耐衝擊特性
為藝術品與參觀者提供安全保障，預防意外損壞與受傷。
超越玻璃的防靜電保護
能立即消除靜電電荷，使裝框過程更安全、更簡易，並減少清潔需求。
耐磨損設計
堅韌的硬塗層可防止清潔與公眾接觸時造成的劃傷。
關於作品
美國西海岸攝影師 Wynn Bullock 是一位現代主義大師，其作品融合了技術創新與科學發現。2014 年於海格特藝術博物館舉辦的巡迴回顧展，全面呈現了其創作歷程，更宛如一部現代主義攝影的縮影，涵蓋了純影派攝影到光影與色彩的實驗性探索。本展覽由該館策展人 Brett Abbott 與亞利桑那大學創意攝影中心共同策劃，展出超過 100 件黑白及彩色攝影作品。所有作品均採用 Tru Vue Optium Museum Acrylic 進行裝裱鑲嵌，其中包括多件首次公開亮相的珍貴作品。
更多資訊
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